压电扫描台内置高可靠性压电陶瓷驱动，可以实现大370μm的扫描范围，运动直线性好，可选择闭环版本获得优异的线性度与重复定位精度。压电扫描台采用*的结构设计，具有大刚度、大出力、大承载等特点，大承载达3.5kg，空载谐振频率达600Hz，配套芯明天大功率控制器响应时间高可达5ms，是精密加工、半导体制造、扫描显微等应用的选择。压电扫描台在纳米光刻实验中需要对镜片进行高速微纳米级的精密移动，从而优化镜片读取的信息。
除了在光刻实验中有着应用，还在激光直写系统中有着广泛的应用。激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗腐蚀材料实施变剂量曝光，显影后在抗腐蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓，激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到掩模上。
激光直写的基本工作流程是：用计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩模结构数据；将数据转换成直写系统控制数据，由计算机控制高精度激光束在光刻胶上直接扫描曝光；经显影和刻蚀将设计图形传递到基片上。
机械误差：光刻过程是指放置在电动平台上的光刻胶基片随着电动平台的转动和平移，由声光调制器控制光束的强弱对光刻胶进行变剂量曝光，通常电动平台的定位精度达到微米或亚微米量级。然而由于惯性、静摩擦、松动等所造成的电动平台螺距误差与偏移，将直接影响着系统的性能和光刻元件的质量。如何提升实现平台的高精度定位是激光直写技术中需要考虑的问题。
压电纳米定位平台采用柔性铰链机构，铰链机构基于固体的弹性变形，无滚动和滑动部分，具有零摩擦、高精度的特点，并且具有很高的刚度和承载能力。更重要的是，芯明天压电纳米定位台的定位精度可达纳米级甚至亚纳米级。
